产品详情
◇磁场大小可以调节
◇等离子体密度高
◇沉积效率高
◇涂层结合力强
◇模块化设计，安装拆卸简单方便
◇靶材使用率高，成本降低
◇量身定做个性化方案和设备
◇可镀制TiN、TiCN、TiCrN、TiAlCrN、TiAlN、 AlTiCN、CrN、ZrN、a-C:H:W/a-C:H
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D100电磁弧镀膜设备 NH-ARC系列 |
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NH-ARC850TES |
NH-ARC1000TES |
NH-ARC1100TES |
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真空室尺寸 |
D850X900 |
D1000X1100 |
D1100X1200 |
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均匀可镀区 |
D500XH500 |
D650XH650 |
D780XH780 |
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极限真空度 |
3.0*E-4Pa |
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压升率 |
0.1Pa/hr |
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转架形式 |
标配两套转架系统+周转小车 采用整进整出形式 |
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沉积装置 |
D100永磁+线圈电弧 |
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离子辅助装置 |
N-IGET弧离子刻蚀 |
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真空检测 |
复合真空计+薄膜真空规 |
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加热系统 |
500℃，3根热电偶监测 |
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控制系统 |
触摸式 手动 全自动 带自动暖机 智能无人值守关机联动系统 |
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冷却水循环系统 |
配日本SMC水流开关，智能控制 IPC+PLC全自动控制 |
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生产运行周期 |
涂层(3um),5-6小时/炉 |
涂层(3um), 6-8小时/炉 |
涂层(3um), 6-8小时/炉 |
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极限载重 |
300KG |
500KG |
800KG |
