产品详情
氧化亚硅炉是一款适用于工矿企业、科研院所做实验、中试、产业化生产使用,其主要针对针对碳材料(活性炭、石墨烯、碳纳米管),锂离子电池正负极材料,稀土功能材料,金属结构材料等新兴材料专用外热式回转炉。具有良好的密封措施和炉膛负压,炉内温度可达1400℃。
该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司开发的,专业应用于硅碳原材料一氧化硅制备的设备。
该设备主要应用于气相法(CVD法)制备氧化亚硅
该设备温控精度1度。
该设备温度控制2000度以内。
该设备升温速率快。
该设备可以可以在10-3的真空度下保持稳定
该设备产量大
该设备能耗低
该设备经过业内验证,做出的材料品质良好
设备参数
1 名称 HF-RS-A(氧化亚硅专用升华炉)
2 炉型 卧室
3 设备组成 升华系统、加热系统、温控系统、真空系统、机械系统、冷却系统
4 升华系统由烧结区和收集区组成。 收集仓的材质由客户
5 温控系统采用 PLC 触屏控制方式
6 加热系统该设备采用电阻丝加热
7 真空系统真空泵真空阀门及管路组成
8 机械部分区外壳采用 304 不锈钢制作
9 冷却系统 该设备配置两段的冷却系统
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (终以设计尺寸为主)