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洪湖高纯氢气检测中心
在 2018 年我国特种气体年销售额中,电子行业约占 41%,石油化工约占 39%,医疗 环保约占 10%,其它约占 10%。
广义的“电子气体”指可用于电子工业生产中使用的气体,是最重要原材料之一, 狭义的“电子气体”特指可用于电子半导体领域生产的特种气体。电子气体可以分为电 子特种气体和电子大宗气体。电子气体在电子产品制程工艺中广泛应用于离子注入、刻 蚀、气相沉积、掺杂等工艺,被称为集成电路、液晶面板、LED 及光伏等材料的“粮食” 和“源”。
近年来,随着电子工业的快速发展,电子气体在半导体行业中的地位日益凸显。在 微电子、光电子器件生产过程中,从单个芯片生成到最后器件的封装,几乎每一步、每一个环节都离不开电子气体,在不同的电子应用领域中,电子特种气体和电子大宗气体 的成本占比略有不同。其中,集成电路领域,电子特种气体和电子大宗气体各自占比 50%。电子气体的质量很大程度上决定了半导体器件性能的好坏。电子气体纯度每提高 一个数量级,都会极大地推动半导体器件质的飞跃。
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特种气体是半导体材料制造过程不可缺少的基硅性支撑材料,处于半导体产业链的 上游,被称为半导体的“源”,主要应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。
化学气相沉积(CVD):是通过气体混合的化学反应,在硅片表面沉积一层固体膜的 工艺,通常包括气体传输至沉积区域、膜先驱物的形成、膜先驱物附着在硅片表面、膜 先驱物粘附、膜先驱物扩散、表面反应、副产物从表面移除、副产物从反应腔移除等八 个主要步骤。化学气相沉积常用的特种气体包括:SiH4、DCS、TCS、SiCl4、TEOS、NH3、 N2O、WF6、H2、O2。