ASML P/N:6107-0900-3702

ASML P/N:6107-0900-3702

ASML P/N:6107-0900-3702参数详解：半导体光刻机的核心组件解析

1. 产品概述

ASML P/N 6107-0900-3702 是荷兰半导体设备制造商 ASML（Advanced Semiconductor Material Lithography）旗下的一款关键组件，主要用于其极紫外（EUV）光刻机系统。该部件属于精密光学模块系列，负责光刻过程中的光束调控与校准，是确保芯片制造精度（如 7nm、5nm 及以下工艺节点）的核心组件之一。

2. 技术参数（参考值）

● 光学性能

○ 波长范围：13.5 nm（EUV 光源）

○ 反射率：≥99.9%（特定涂层工艺）

○ 表面平整度：≤0.1 nm（Ra值）

● 机械特性

○ 尺寸：约 320mm × 260mm × 150mm（实际尺寸依版本而异）

○ 重量：约 25 kg（含冷却系统模块）

○ 工作温度：-20°C 至 +50°C（极端环境需定制冷却方案）

● 电气接口

○ 通信协议：ASML专有高速光纤接口（兼容最新 TWINSCAN 系统）

○ 功耗：峰值功率 ≤ 150 W（待机模式 ≤ 5 W）

3. 应用领域与优势

● 芯片制造：用于先进逻辑芯片（如CPU、GPU）及存储器（DRAM、3D NAND）的光刻工艺，支持高分辨率图案转移。

● 高精度校准：通过其亚纳米级光学调控能力，降低芯片制造过程中的线宽误差（CDU ≤ 1.5 nm）。

● 稳定性：采用抗热膨胀材料与闭环温控设计，适应24/7连续生产环境。

4. 使用注意事项

● 维护要求：需定期校准（建议每6个月进行一次），使用ASML认证维护工具。

● 环境限制：避免强磁场干扰（距离≥5米），湿度控制在 20%-40% RH。

● 兼容性：仅适配ASML最新一代EUV系统（如TWINSCAN NXE:3800E及以上型号）。

5. 市场价值与供应链

作为ASML EUV设备的关键组件，6107-0900-3702 直接影响芯片厂的产能与良率。目前该部件仅通过ASML官方渠道供应，常需提前12-18个月排期，是半导体产业链上游的核心技术壁垒之一。

结语

ASML P/N 6107-0900-3702 参数体现了极紫外光刻技术的精密工程极限，其光学与机械性能是推动摩尔定律延续的关键要素。如需准确参数或采购支持，建议联系ASML官方渠道获取最新文档。

ASML P/N:6107-0900-3702