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| 数量(件) | 面议 |
| 1 |
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| 详细参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 规格型号 | 4022.436.33472 | |
| 编号 | 齐全 | 计量单位 | 1件 |
| 付款方式 | 面议 | 参考价格 | |
| 价格单位 | 人民币 | 供货量 | 不限 |
| 说明书，报价手册及驱动 |
 |
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| 产地 | 国外国外 | 发货地 | 全国全国 |
ASML 4022.436.33472
ASML 4022.436.33472核心组件技术解析
产品概述ASML 4022.436.33472 是荷兰半导体设备巨头 ASML 旗下的一款光学系统模块，专为先进光刻机（EUV/DUV）的核心工艺设计。该组件属于精密运动控制单元，负责在纳米级制程中实现晶圆曝光过程中的定位与同步调节，是保障芯片制造分辨率与良率的关键部件。宁德润恒自动化作为ASML的授权供应商，为中国半导体产业链提供该组件的现货供应与技术支持。
技术参数
1. 定位精度：
○ 运动分辨率：≤0.1nm（XYZ三轴）
○ 重复定位精度：±0.5nm（标准差）
2. 动态性能：
○ 大加速度：50m/s²（三轴独立控制）
○ 响应时间：≤1ms（闭环反馈）
3. 环境适应性：
○ 工作温度范围：20℃±0.5℃（恒温控制）
○ 振动抑制：≤0.01μm@10Hz（主动减震系统）
4. 电气接口：
○ 通讯协议：ASML专有高速光纤链路（兼容EtherCAT）
○ 控制电压：DC 24V±5%（冗余供电设计）
5. 物理规格：
○ 尺寸：380mm（L）×260mm（W）×150mm（H）
○ 重量：约32kg（含冷却单元）
应用领域该组件主要应用于：
● 极紫外光刻（EUV）：支持7nm及以下制程的芯片制造，确保多镜头系统的纳米级对准。
● 深紫外光刻（DUV）：在ArF/KrF光源系统中实现亚微米级曝光精度。
● 晶圆检测设备：集成于扫描仪，提升缺陷检测分辨率。
技术优势
1. 超精密运动控制：采用ASML的磁悬浮驱动技术，机械摩擦，实现无磨损运动。
2. 实时校准系统：内置激光干涉仪与AI补偿算法，动态修正热漂移与机械应力导致的误差。
3. 高集成度设计：模块化封装降低安装复杂度，兼容ASML TWINSCAN系列光刻机升级需求。
4. 可靠性保障：MTBF（平均故障间隔时间）≥10万小时，符合半导体无尘车间严苛运维标准。
ASML 4022.436.33472
联系人：吴经理 手机：18596688429（微信同号）邮箱：841825244@qq.com
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