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\r“<\/span><\/strong>三<\/span><\/strong>”<\/span><\/strong>温区开启式管式炉<\/span><\/strong>-1200X-<\/span>主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(<\/span>CVD<\/span>)工艺等。设备的控制系统国际**,具有安全可靠、操作简单、控温精度高(模糊<\/span>PID<\/span>控制)、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可通气氛抽真空等特点。<\/span><\/span>\r<\/p>\r \r <\/span><\/span><\/b>\r<\/p>\r