产品详情
全谱直读光谱仪9800L
应用领域
全谱直读光谱仪9800L是我公司引进欧洲技术生产,是目前先进的国际认为的CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制，炉前化验，中心实验室成品检验。落地式全谱直读光谱仪9800L体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便，是控制产品质量的理想选择。
产品优势
1、先进的CCD全谱光谱仪制造技术（数字化技术替代老式体积庞大笨重的光电倍增电子管模拟技术）、通道不受限制 ；
2、引进欧洲技术、同国际光谱仪技术同步，国内一家也能生产真空CCD全谱技术光谱仪的制造商；
3、基体范围内通道改变、增加不需费用；
4、升级多基体方便，无须变动增加硬件；
5、优良的数据稳定性，同一样品不同的时间段分析，可获得良好的数据一致性；
6、体积小、重量轻， 移动安装方便；
7、高集成度、高可靠性、高稳定性；
8、节电、节材、能耗只是普通光谱仪50%。
主要特点
1、可测定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,适用于多种金属基体，如：铁基，铝基，铜基，镍基，铬基，钛基，镁基，锌基，锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素；
2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用较短的时间达到较优的分析效果；
3、光学系统采用真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性较佳；
4、特殊的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半；
5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定；
6、开放式的电及架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析；
7、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除千扰；
8、HEPS数字化固态光源，适应各种不同材料 ；
9、固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性；
10、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能；
11、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半；
12、采用钨材料电及，电及使用寿命更长，并设计了电及自吹扫功能，清洁电及更加容易；
13、高性能DSP及ARM处理器，具有高高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块 的运行状况；
14、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗千扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性；
15、核心器件全部进口，保证了仪器优良的品质。
技术参数
1、光学系统
光学结构：帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统
光室温度：自动控制恒温：35℃±0.5℃
波长范围：160-800nm
光栅焦距：350 mm
光栅刻线：3600 l/mm
Ⅰ级光谱线色散率：1.2 nm/mm
探测器：多块高性能线阵CCD
平均分辨率：10pm/pixel
2、激发台
气体：冲氩式
氩气流量：激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量
电及：钨材喷射电及技术
吹扫：点击自吹扫功能
补偿：热变形自补偿设计
分析间隙：样品台分析间隙：4mm
3、激发光源
类型：HEPS数字化固态光源
频率：100-1000Hz
放电电流：1-80A
特殊技术：放电参数优化设计
预燃：高能预燃技术
4、数据采集系统
处理器：高性能ARM处理器，高速数据同步采集处理
接口：基于DM9000A的以太数据传输
5、电源与环境要求
输入：220VAC 50Hz
功率：分析时（max）700W，待机状态40W
工作温度：10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h）
工作湿度：20-80%
6、尺寸与重量
尺寸：800*450*500 mm
重量：120Kg
