产品详情
我公司咸阳鸿峰窑炉设备有限公司较早进入这一领域的厂家，与该领域研究的前沿科研院所长期保持交流沟通，炉体的结构设计及工艺实现得到了很多专业人士的认可，西北工业大学及哈尔滨工业大学的教授都给予了很多改进意见，经过多年的研究创新，公司现研发的新一代窑炉设备具有设计合理，运行稳定，成品规格高，良率高，节能环保等特点，可规模化应用于工业生产领域。
该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司开发的，专业应用于硅碳原材料一氧化硅制备的设备。
该设备主要应用于气相法（CVD法）制备氧化亚硅
该设备温控精度1度。
该设备温度控制2000度以内。
该设备升温速率快。
该设备可以可以在10-3的真空度下保持稳定
该设备产量大
该设备能耗低
该设备经过业内验证，做出的材料品质良好
设备参数
1 名称 HF-RS-A（氧化亚硅专用升华炉）
2 炉型 卧室
3 设备组成 升华系统、加热系统、温控系统、真空系统、机械系统、冷却系统
4 升华系统由烧结区和收集区组成。 收集仓的材质由客户
5 温控系统采用 PLC 触屏控制方式
6 加热系统该设备采用电阻丝加热
7 真空系统真空泵真空阀门及管路组成
8 机械部分区外壳采用 304 不锈钢制作
9 冷却系统 该设备配置两段的冷却系统
10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (终以设计尺寸为主)
