产品详情
一、设备名称:硅片气氛保护实验辊道炉
二、设备用途:主要生产硅片(156x156x0.2mm)氧化性无尘生产实验
三、 主要技术参数
3.1 炉膛尺寸: 1380×500×100 (L×W×H)mm
3.2 外形尺寸: 1980×1500×1100(L×W×H)mm
3.3 额定温度: 1300℃
3.4 工作温度: 1000℃
3.5 控温精度: ≤±2℃
3.6 炉内温差: ≤±5℃
3.7 炉外温度: ≤±40℃
3.8 控温组数: 3温区3 个控温表
3.9 工作速度: 全窑按5min计算,400mm/min,
3.10 调速范围: 120~700mm/min,
3.11 加热方式: 电加热,炉内的上部安装
3.12 加热元件: 硅碳棒,上部安装
3.13 加热功率: 36 KW
3.14 保温功率: 25KW
3.15 加热长度: 1080mm
3.16 炉衬材质: 整条设备炉内采用刚玉材质作为炉膛
3.17 保温材料: 轻质保温砖和纤维棉
3.18 保温层次: 底部330mm,两侧面各350mm,炉顶400mm
3.19 控 制 柜: 独立全自动控制
3.20 设备结构: 共1段
3.21 冷却方式: 自然冷却
3.22 输送方式: 45°斜齿轮传动
3.23 速度控制: 无极变频控制
3.24 进气类别: 氮气和氧气