真空流动气氛烤胶机

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  • 发布日期:2023-10-11
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详细参数
品牌易拓(ETOOL)型号ET-220ZK
换热方式表面式装置方式立式
水压低压加工定制
加热器类型空气加热器工作压力AC220V
换热面积220*220(mm)适用于4,6,8,圆晶换热系数硬质阳极氧化铝耐腐蚀加热面板
加热功率1500W抗电强度真空烤胶机
温度范围室温-400℃用途用于微波器件,微波组件,TR模块的共晶烧结
绝缘电阻提供惰性气体保护连续使用寿命1年
产地深圳外形尺寸650mm*420mm*900mm

产品详情

流动气氛真空加热台又称烤胶机、烘胶机,可充氮气及其他惰性气体控温范围为室温至600度(可按需求订制不同规格、温度).流动气氛加热台真空加热台可用于微波器件、微波组件、TR模块的共晶烧结。设备可提供惰性气体保护,整机控制界面有液晶显示各项工艺参数。真空加热台其加热温度为450℃;如图有玻璃观察窗口,利用硅胶密封圈.
  

  流动气氛加热台特点:

  1:作简单,功能实用,外型小巧,用于流动气氛环境下的高温加热,即在加热过程中,为受热样品提供一个可调控的保护氛围。
  2:热面板 均匀性好,温控精度高,不易变形,耐腐蚀,同时具有升温迅速,程序段控温,控温精准等优点。
  4:于可调控的流动气氛功能,对空气敏感的样品加热,不但可以保护样品不易氧化,还可以保护对湿度敏感的样品不易吸潮。
  5:于可调控的流动气体功能,对半导体电极膜层的高温烧结,本品可以使电极膜层中的高分子物质在高温下形成碳化后随着气流迅速逃离膜层表面,不会堵塞纳米孔。
  3:根据客户要求订制各种温度,尺寸,功能的加热台(可定做400度、500度,600度,800度的)
真空加热台

  流动气氛加热台的作用适用范围:

  适用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺的,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。可在工矿企业、科研、教育等单位进行老化、温度试验及干燥、烘焙和热处理等作生产、科研、教学之用。

  充氮气加热台技术参数:

  1、面板材质:309S不锈钢(耐高温)可选陶瓷,铝合金
  2、电压:220V
  3、产品尺寸:230x 190x 185(mm)
  4、加热区域:2200x220(mm)
  5、有效恒温区域:220X220( mm)
  6、控温范围:室温 - 600℃
  7、控温精度:士1%℃(无气流下)
  8、温度分辦率:0.1℃
  9、气氛:空气或惰性气体
  10、功率:1500W. (10A)
  11、控温方式:30个程序度控温
流动气氛加热台
  加热台型号及配置可选参数表
  ET-1616ZK ET-1616LDQF ET-220-DQAZK
控温范围 室温-230度 室温-600度 室温-300度
加热区域(mm) 160*160 160*160 220*220
有效恒温区域(mm) 160*160 100*100 220*220
温度分辨率 0.1℃ 0.1℃ 0.1℃
控温精度 ±1%℃ ±1%℃(无气流下) ±1%℃
控温方式 30个程序段线性 30个程序段线性 可储存6组程序配方,每组配方30个加热阶段
面板均匀性 士1%℃ 士1%℃ 士1%℃
面板材质 铝合金喷涂陶瓷面板 309s特种不锈钢 硬质阳极氧化铝
时间设置 lmin-999.9min lmin-999.9min lmin-999.9min
带盖观察窗直径(mm)) 100
电源电压 AC220V(50HZ) AC220V(50HZ) AC220V(50HZ)
功率 500W 600W 1500W
产品规格尺寸(mm) 210*210*165 230* 190*185 400*300*290
重量 28KG 6KG 15KG
旋转涂膜烤胶设备

  流动气氛加热台使用方法:

  1、高温加热台接通电源,打开“电源开关”此时绿色“电源指示灯”常亮,表明设备已供电。
  2、打开“升温开关”设备开始运行,红色“升温指示灯”常亮表明表面工作台正在持续升温;闪烁表明进入恒温状态,此时表面工作台为间断性升温。
  3、使用完后,先关闭“升温开关”此时设备升温部分停止运行,此时绿色“电源指示灯”依然常亮,可以间接性警示设备依然在工作,请勿触碰工作面板。待表面工作面板*冷却后(建议1小时)再关闭“电源开关”。

  加热板注意事项:

  1、电源电压为220VAC,并且要有接地线的三孔插座和漏电开关。
  2、非专业人士请勿打开机壳,或擅自改动内部接线。
  3、不可用手直接接触发热板 
  4、长期不用或外出时,请切断电源。
  5、此设备有风冷散热装置,切勿堵塞设备侧面进风口。

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